DLC塗層就是類（lèi）金剛石（shí）塗層，具（jù）有高（gāo）硬度、耐磨損、低摩擦係數、良好（hǎo）的化學穩定性及高透光率（lǜ）等優異性能，得（dé）到廣泛應用。DLC塗層按照成分可以（yǐ）分為（wéi）含氫DLC塗層和無氫DLC塗層，含氫DLC塗層主要采用化學氣相（xiàng）沉積（CVD）方法沉積，含有大量飽和（hé）sp3鍵的氫元素，使用過程（chéng）中經（jīng）常（cháng）由於氫逸（yì）出導致性能退化（huà）。而無氫DLC塗層中sp3鍵全部由碳原子組成，結構上更加穩定（dìng）可靠，使（shǐ）用效果更好。那麽，常用無氫DLC塗層製備方法有哪些（xiē）呢（ne）？如果想（xiǎng）獲得較厚的膜（mó）層，該使用怎樣的方（fāng）法（fǎ）製備呢？下麵，納（nà）隆小編為大家解析一下（xià）上（shàng）述問題吧。

一、常用的無氫DLC塗層沉積製備方（fāng）法分（fèn）類 

1、電弧離子鍍

　電弧離子鍍是1964年首先公（gōng）開了（le）所發明的技術。它是（shì）在蒸發鍍膜（mó）的同時，用來源於等離子（zǐ）體的離子轟擊膜層。在上世紀70年代諸多（duō）電弧（hú）離子鍍技術相繼實用化，主要用於（yú）製備刀具塗層。
　　電弧離子鍍（dù）技術屬於冷場致弧光放電，製備過（guò）程如下：
　　工件（jiàn）經清洗入爐（lú）後抽真空（kōng）。當真空度達到6X10 -3 Pa後，開啟（qǐ）烘烤加熱電（diàn）源，對工件（jiàn）進行加熱。達到一定溫度後，通入氨氣，真空度降至（3～5）×10-1Pa。接通工件偏（piān）壓電源，電壓調至100~200V。此時產生輝光放電，從陰極弧源表（biǎo）麵發射出碳（tàn）原子和石（shí）墨（mò）原子（zǐ）。在工件負偏（piān）壓的作用（yòng）下，沉積到工件形（xíng）成DLC底層，以提高類金剛石塗層的附著力（lì）。

2、離子輔助沉積

　　離子輔助沉積技術英文縮寫IAD，是一種真空蒸發為基礎（chǔ）的輔助沉積（jī）方法。是借（jiè）助少量高能離（lí）子及（jí）大量高能中子的連續作用，將金屬或（huò）金屬化合物蒸氣沉積在工件的一種表麵處理過程。
　　真空蒸發鍍膜過程中沉積的（de）原子或（huò）者分子（zǐ）在基（jī）體表麵的有限遷移率形成柱狀的（de）薄膜結構（gòu），所以在（zài）沉積的過程中對生長的薄膜利用離子源轟（hōng）擊，將離子的動量傳給沉積的原子或分子，使沉積的分子或者原子的遷移率得到提（tí）高，從而抑製了柱狀結構的生長，使得光學介質薄膜的密度增加，光學性能進一步提高。

3、濺射沉積

　　濺射（shè）沉積是用高能粒子轟擊靶（bǎ）材表麵，通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其他（tā）粒子，使靶材中的原（yuán）子濺射出來，沉積在基底表麵形成薄膜的方法。
　　濺射沉積（jī）技術具有可實現大麵積快（kuài）速沉積，無氫DLC薄膜與基體結合力好，濺射密度高、針孔少，膜層可（kě）控性和（hé）重複性（xìng）好等優點，且任（rèn）何物（wù）質都可以進（jìn）行濺射，因而近年來發展迅速（sù），應用廣泛。

二、含氫DLC塗層製備辦法還有一種叫物理氣相堆積(PVD)。

物理氣相堆積製備DLC薄膜，通過高溫蒸騰，氣體離子濺（jiàn）射石墨靶材，使碳以離子或原子的方式堆積於基（jī）體上成膜，這種薄膜外表粗糙，結合力差，工業應用效果不明（míng）顯。離（lí）子束堆積(IBD)、磁控濺射、陰極電弧技（jì）能和脈衝激光堆（duī）積(PLD)等，均能夠製備（bèi）外表細密潤滑、內應力小、附著力強、摩擦係數較小的類金剛石塗層。

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