類金剛石(DLC)一以sp3和sp2 的形式其層結構是由碳（tàn）的sp3和s2形態合而成的定型組織(沒有顯性的（de）晶格結（jié）構)，塗層性能的好壞取決於形成的膜層結構中s3和s2各（gè）自所占的百分比sp3所占的比率越（yuè）高，膜層性能越（yuè）接近天然金剛石，顯微硬度越高;sp2所占的比率越高膜層的自潤滑性（xìng）能越好摩擦因（yīn）數越（yuè）小,但顯微硬度會降低(它和金屬之間的摩擦因數的範圍一般是005-02)通過設定生產流程中的工藝參數和選（xuǎn）擇不同的靶材，可以控製最終成（chéng）形膜層的屬性來滿足不同場（chǎng）合的需求。

DLC處理的工藝（yì）流程包括所需處理工件基體的處理(拋光清洗)的選擇成條件的設定、成形及成形（xíng）後的檢測等。要想（xiǎng）得到高品質的（de）DLC塗層工（gōng）件基體處（chù）理的好壞至關重要。將工件要拋光到小（xiǎo）於（yú） Ra0.2m塗（tú）覆處理後的工件才可得到滿意的表麵質量.

基體表麵處理不能留有死角，這關係到膜層是否（fǒu）能與基體牢固地結合（hé）。將要塗覆的工件還（hái）要充（chōng）分清洗。清洗工藝取決於塗覆的質量水平、母材和幾（jǐ）何形狀。工件裝在設定的夾具上，夾具是在使（shǐ）腔體裝載尺（chǐ）寸（cùn）最優化和保證（zhèng）塗覆均勻的基礎上設計的。

      在靶材(用於沉澱的固體金屬)上加載高電流低電壓電弧，金屬（shǔ）被燕（yàn）發並且（qiě）瞬間離子化，這些金屬（shǔ）離子在高能量的作（zuò）用下通過惰性氣體或活性（xìng）氣體進入腔體並沉澱在工件上。在金屬沉澱過（guò）程中蒸發了的金屬(靶材)保持不變。在（zài）激（jī）活的澱過程中改變氣體的體積或種類將會改變膜層（céng）的性質，形成像碳（tàn）化物、氮化物或氧化物（wù）的陶瓷。同樣通過改（gǎi）變靶材的材質也可以產生不同的膜層。在塗覆完成後，還需要（yào）對成形後工件的膜層（céng）質量進行檢測，包括工件的光澤（zé）膜的厚（hòu）度否均而且尺寸在控（kòng）製範圍之內，以及膜（mó）層（céng）是否出現分層下載高清無水印現象等。

       DLC(類（lèi）金剛（gāng）石)塗層技術（shù）目前在衝切模具領（lǐng）域應（yīng）用廣泛。DLC塗層（céng）的工業化生產開始於20世紀末，與（yǔ）應用於模（mó）具上的硬質塗層相比是一種新的層技術在半導體（tǐ）封裝（zhuāng）、管腳切割和成形（xíng）製造（zào）過程中，高精度的模具是確保產品品（pǐn）質（zhì）的關鍵。模具表麵質量又決定了產（chǎn）品優良率、生產效率和產品電學性能等。所以，應用於（yú）半導體封裝行業的模具不但要求高精度，同時也要求模具刃口件（jiàn）向表麵低摩（mó）擦因數和高硬度（dù）的方向發展而運用等離子體DLC塗層技術的塗層是這一問題的主要（yào）解決方案。