類金剛石（shí）膜是以石墨或碳氫化合物等為原料，在低溫低壓（yā）下人工合成的一種（zhǒng）含有SP3和SP2鍵的非晶碳膜。由於其具有一係列與金剛（gāng）石相接近的優良性能和結構特征，國內外科（kē）技（jì）工作者對DLC膜（mó）的（de）製備工藝（yì）、結構形（xíng）態、物理測定（dìng）、應用開拓和（hé）專業化生產等方麵進（jìn）行了廣泛的研究,采用陽極型氣體離子（zǐ）源結合（hé）非平衡磁控濺射複合技術的方法，製（zhì）備Cr過渡層（céng）的DLC/wcc薄膜，並對其膜層性能、界麵、結構及成分（fèn）分布等進行了（le）分析，以期為製備優質的（de）DLC膜積（jī）累有用的特性數（shù）據（jù）。

       采用陽（yáng）極層流型矩形氣體離子（zǐ）源，並結合非平衡磁控濺射進行摻鎢類（lèi）金剛石薄膜沉積。主要沉積DLC薄膜:當在磁控靶（bǎ）前麵時，主要沉積wcc薄膜，最（zuì）終實現DLC/WCC多層（céng）膜的製備。

       DLC/wcc薄膜(約2200nm)。膜層總厚度約2.7um;顯微硬度HV0.025,15為3550，明顯高於摻鈦（tài）類金剛石膜的硬度（dù）(HV0.025,15為2577);摩擦因數（shù）為0.139(與鋼對磨)。

        所沉積的膜層與較軟的Ti6AI4V基體結合良好，劃痕邊緣沒有明顯的崩膜，到52N後才露出基體，也就是膜基結（jié）合力達到了52N，達到工業應用離子（zǐ）鍍TiN薄膜的膜/基結合水平。

1、膜層厚度2.7μm，硬度為3550HV，與鋼對（duì）磨（mó）時摩擦因數為0.139，在Ti6AI4V鈦合金上膜/基結合力達52N。

2、WCC/DLC多層膜，調製（zhì）周期為4nm。

3、DLC/wcc薄（báo）膜仍呈（chéng）現出類金剛（gāng）石膜的主（zhǔ）要特征