自1980年以來（lái），類金剛石塗（tú）層作為新型鍍膜技術一直廣受歡迎（yíng），而我國在這（zhè）方麵也取得了一些進展，但與（yǔ）發達國家相比仍然還有差距。

類金剛石塗層目前有很多（duō）種類，一般（bān）類金剛（gāng）石塗層分（fèn）為氫化類金剛石碳膜(a-C：H)和無氫類金剛石碳膜(a-C)兩大類，由於其結構工藝機（jī）理極為複雜，目前（qián）DLC塗層（céng）在（zài）高溫下會出現穩定性問題，比如在超過400度後DLC塗層會（huì）存在很大（dà）的內應力，也會降低其結合力，會是的DLC膜層出現起皺（zhòu），脫落。

但是這也阻（zǔ）擋不了DLC塗層由於特殊的結構，兼備鑽石性能，所以它同時也擁有很多優異的性能，比如DLC塗層的抗磨性、化學惰性、沉積溫度低、膜麵光滑，可以將其作為一些電子產品的保護膜。

類金剛石DLC在（zài）電子行業的應用

如噴（pēn）墨打印機墨盒加熱層上（shàng）、磁（cí）存儲器的表（biǎo）麵、電器中的音膜、半（bàn）導體行業的電路板加一層類金剛石膜 DLC 保護層、不僅能有效的減少機械損傷，又不影響數據存儲。

類金剛石膜具有電阻率高、絕緣性強、化學惰性高和低電子親和力（lì）等性能。人們將類金剛石膜用作（zuò）光刻電路板的（de）掩膜，不僅可以避免操作過程（chéng）中的機械損（sǔn）傷，還可以在去除薄膜表麵的汙染（rǎn）物（wù）允許用較激烈的機械或化學腐蝕方法，且且同時不會破壞薄膜的表麵。

采用（yòng）類金剛石膜和碳膜交替出現的（de）多層膜結構構造成的多量子阱結構，具有共振隧道效應的和獨特的電特性，在微電子領域（yù）有著潛在的應用前景。類金剛石膜具有良好的表麵平麵光滑度，電子發射均勻性好，即使在較低的外電場作用（yòng）下，也可產生較大的發（fā）生電（diàn）流，這個性（xìng）能在平板顯示器中有著特殊的使用價值（zhí）。