PVD物理氣（qì）相沉積采用低電壓大電流的電弧放（fàng）電技術，通過荷能粒子的轟擊，將其（qí）吸引並（bìng）沉積到工件表麵形成3~5um的超硬薄膜層。利用PVD法（fǎ）可在工件表（biǎo）麵沉積類金剛石dlc、氮化鈦TiN、氮化鉻CrN、DLC、TiAIN等單（dān）層多層複合塗層。

離子束DLC:碳氫（qīng）氣體在離子源（yuán）中被離化成等離子體，在電（diàn）磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子（zǐ）束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控製。碳氫離子束被引到基片上，沉積速（sù）度與離子電流密度成正比。星（xīng）弧塗層的（de）離子束源采用高電壓，因而離子能（néng）量更大，使得薄膜與基片結合力很好;離子電流更大，使得DLC 膜的沉積（jī）速度更（gèng）快。

DLC膜層是一（yī）種由碳元素構成的類似鑽石的（de）碳薄（báo）膜，具（jù）有優異的硬度、耐（nài）磨性和化學穩（wěn）定性。在許多領域中，DLC膜層被廣泛應（yīng）用於減摩、潤（rùn）滑、防腐蝕等方麵。然而，熱膨脹（zhàng）是 DLC膜層應（yīng）用過程中需要（yào）考慮（lǜ）的（de）一個重（chóng）要因素。

由於DLC膜層中含有較高比例的碳元素，其熱膨脹係數通常較低。這是因為碳元素的原子半徑較小，原子間的結合力較強，使得DLC層在溫（wēn）度變化下的膨脹程度較小（xiǎo）。此外，DLC膜層中還可能摻雜其他元素，如氫、氮、矽等，這些元素的加入會對膨（péng）脹係數產（chǎn）生一定的影響。

DLC膜層參數

1.硬度極高(超過Hv2000-Hv4500):代（dài）表耐性極好;

2.摩擦係數低(DLC=0.04):改（gǎi）善拉伸五金衝壓、成型的潤滑問題;

3.耐高溫(最高達到350℃):不容（róng）易氧化，改善幹切削和壓鑄成型問題;化學屏（píng）障（zhàng）/導（dǎo）熱率低:可有效（xiào）防止（zhǐ）因高溫導（dǎo）致硬質合（hé）金刀具的鑽元（yuán）素流（liú）失:改善壓鑄出現的熱龜裂問題;

4.厚度可控製在1-5微米以內:塗層後不影響產品的最終（zhōng）尺寸